半導体計測装置
薄膜半導体製造の歴史は、絶え間ないプロセス改善の歴史であった。
薄膜半導体製造の歴史は、常にプロセスを改良し続けてきました。コスト効率の高い生産のためのカギは、自動計測システムを実行してきたことです。昔から計測技術は、どんな種類の物理量やサイズでも測定してきました。薄膜製造産業では、自動計測システムは、厚さや屈折率、抵抗率、薄膜の応力などのパラメータを測定します。しかし、これらのシステムは材料の物理特性を追求するために使われただけではなく、この情報を製造プロセスにフィードバックすることにも使われてきました。
たくさんの薄膜特性は温度安定性が必要となるため、熱管理は半導体試験の段階で重要な役割を果たします。より高いスループットとパッケージング密度に対するニーズは、高速の光あるいは電気的測定システムと組み合わせることによって、熱管理システムに関する必要性をますます高めています。
Nextreme™熱電チラー
NRC400熱電チラーは、信頼性が高く、±0.05°Cという正確な温度安定性を、半導体自動光学検査装置にもたらします。固体の熱電チラーは、性能を高め、保守を減らすので、全運用コストを下げます。
Nextreme™ NRC400熱電チラーを探すか、半導体計測&検査システム向け再循環チラーに関するアプリケーションノートをお読みください。
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熱電ベースの再循環チラーは、半導体計測および検査システムの正確な温度制御を提供します。
Cooling and temperature control systems are used throughout semiconductor fabrication facilities. In fabrication facilities both large and small, hundreds to thousands of cooling systems are installed and operate continuously.
Many of the properties of a thin film are also temperature dependent, temperature stability is key and thermal management is critical. In addition, temperature control of the stages and other critical components are required for accurate and repeatable measurements over lengthy periods of time.
半導体計測は、半導体製造プロセスにおいて重要です。